Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

സിർക്കോണിയം ഓക്സൈഡ് ZrO₂ |ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡ് HfO₂ 99.9%

വിവരണം

സിർക്കോണിയം ഓക്സൈഡ് ZrO₂, അല്ലെങ്കിൽ സിർക്കോണിയം ഡയോക്സൈഡ്, പ്രായോഗികമായി വെള്ളത്തിൽ ലയിക്കാത്തതും HCl, HNO എന്നിവയിൽ ചെറുതായി ലയിക്കുന്നതുമാണ്₃, ദ്രവണാങ്കം 2700°C, സാന്ദ്രത 5.85g/cm³, ഉയർന്ന ദ്രവണാങ്കം, ഉയർന്ന പ്രതിരോധശേഷി, ഉയർന്ന റിഫ്രാക്റ്റീവ് സൂചിക, താഴ്ന്ന താപ വികാസ ഗുണക ഗുണങ്ങൾ എന്നിവയുള്ള മണമില്ലാത്ത ക്രിസ്റ്റലാണ്, ഉയർന്ന താപനിലയെ പ്രതിരോധിക്കുന്ന പ്രധാന വസ്തുക്കൾ, സെറാമിക് ഇൻസുലേറ്റിംഗ് മെറ്റീരിയലുകൾ, സെറാമിക് സൺസ്ക്രീനുകൾ, കൃത്രിമ രത്നങ്ങൾക്കുള്ള അസംസ്കൃത വസ്തുക്കൾ.ZrO₂തണുത്തതും വരണ്ടതും നന്നായി വായുസഞ്ചാരമുള്ളതുമായ സ്ഥലത്ത് സൂക്ഷിക്കേണ്ട പൊതു സാധനങ്ങളാണ്, കണ്ടെയ്നർ കർശനമായി അടച്ച് ശക്തമായ ക്ഷാരത്തിൽ നിന്ന് അകറ്റി നിർത്തുക.സിർക്കോണിയം ഓക്സൈഡ് ZrO₂ലോഹ സിർക്കോണിയം, സിർക്കോണിയം സംയുക്തങ്ങൾ, ഉയർന്ന ഫ്രീക്വൻസി സെറാമിക്സ്, ഉരച്ചിലുകൾ, സെറാമിക് പിഗ്മെന്റുകൾ, റിഫ്രാക്ടറി മെറ്റീരിയൽ, ഒപ്റ്റിക്കൽ ഗ്ലാസ് എന്നിവ നിർമ്മിക്കാൻ സാധാരണയായി ഉപയോഗിക്കുന്നു.

ഡെലിവറി

സിർക്കോണിയം ഓക്സൈഡ് അല്ലെങ്കിൽ സിർക്കോണിയം ഡയോക്സൈഡ് ZrO₂ZrO യുടെ പരിശുദ്ധിയോടെ₂+HfO₂≥ 99.9%, ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡ് HfO₂HfO യുടെ പരിശുദ്ധിയോടെ₂+ZrO₂വെസ്റ്റേൺ മിൻമെറ്റൽസ് (SC) കോർപ്പറേഷനിൽ ≥99.9% 60-150 മെഷ് പൗഡർ വലിപ്പത്തിലും, പുറത്ത് കാർഡ്ബോർഡ് ഡ്രം ഉള്ള പ്ലാസ്റ്റിക് ബാഗിൽ 25 കിലോഗ്രാം, അല്ലെങ്കിൽ ഇഷ്ടാനുസൃത സ്പെസിഫിക്കേഷൻ പോലെ വിതരണം ചെയ്യാം.

ഇപ്പോൾ അന്വേഷണം

വിശദാംശങ്ങൾ

ടാഗുകൾ

സാങ്കേതിക സ്പെസിഫിക്കേഷൻ

ZrO₂& HfO₂

സിർക്കോണിയം ഓക്സൈഡ് അല്ലെങ്കിൽ സിർക്കോണിയം ഡയോക്സൈഡ് ZrO₂ ZrO യുടെ പരിശുദ്ധിയോടെ₂+HfO₂≥ 99.9%, ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡ് HfO₂HfO യുടെ പരിശുദ്ധിയോടെ₂+ZrO₂വെസ്റ്റേൺ മിൻമെറ്റൽസ് (SC) കോർപ്പറേഷനിൽ ≥99.9% 60-150 മെഷ് പൗഡർ വലിപ്പത്തിലും, പുറത്ത് കാർഡ്ബോർഡ് ഡ്രം ഉള്ള പ്ലാസ്റ്റിക് ബാഗിൽ 25 കിലോഗ്രാം, അല്ലെങ്കിൽ ഇഷ്ടാനുസൃത സ്പെസിഫിക്കേഷൻ പോലെ വിതരണം ചെയ്യാം.

ഇനങ്ങൾ	HfO₂	ZrO₂
രൂപഭാവം	വെളുത്ത പൊടി	വെളുത്ത പൊടി
തന്മാത്രാ ഭാരം	210.49	123.22
സാന്ദ്രത	9.68 ഗ്രാം/സെ.മീ³	5.85 ഗ്രാം/സെ.മീ³
ദ്രവണാങ്കം	2758 °C	2700 °C
CAS നമ്പർ.	12055-23-1	1314-23-4

ഇല്ല.	ഇനം			സ്റ്റാൻഡേർഡ് സ്പെസിഫിക്കേഷൻ
1	ശുദ്ധി			അശുദ്ധി (PCT പരമാവധി ഓരോന്നും)	വലിപ്പം
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150 മെഷ്
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 മെഷ്
4	പാക്കിംഗ്			പുറത്ത് കാർഡ്ബോർഡ് ഡ്രം ഉള്ള പ്ലാസ്റ്റിക് ബാഗിൽ 25 കിലോ

ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡ് HfO₂, അല്ലെങ്കിൽ ഹാഫ്നിയം ഡയോക്സൈഡ്, ഹാഫ്നിയത്തിന്റെ സംയുക്തം, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, ദ്രവണാങ്കം 2758°C, സാന്ദ്രത 9.68g/cm³, വെള്ളം, HCl, HNO എന്നിവയിൽ ലയിക്കില്ല₃, എന്നാൽ H ൽ ലയിക്കുന്നു₂SO₄കൂടാതെ എച്ച്.എഫ്.ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡ് HfO₂വിശാലമായ ബാൻഡ് വിടവും ഉയർന്ന വൈദ്യുത സ്ഥിരതയും ഉള്ള ഒരു സെറാമിക് മെറ്റീരിയലാണ്.ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡ് HfO₂MOSFET-ലെ പരമ്പരാഗത SiO₂/Si ഘടനയുടെ വികസനത്തിന്റെ വലിപ്പ പരിധി പ്രശ്നം പരിഹരിക്കാൻ മെറ്റൽ ഓക്സൈഡ് സെമികണ്ടക്ടർ ഫീൽഡ് ഇഫക്റ്റ് ട്യൂബിന്റെ ഗേറ്റ് ഇൻസുലേറ്റർ സിലിക്ക മാറ്റിസ്ഥാപിക്കാൻ ഏറ്റവും സാധ്യതയുള്ളതാണ്, അതിനാൽ ഇത് മൈക്രോഇലക്‌ട്രോണിക് ഫീൽഡിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഒരു നൂതന മെറ്റീരിയലാണ്.ഹാഫ്നിയം ലോഹം, ഹാഫ്നിയം സംയുക്തങ്ങൾ, റിഫ്രാക്ടറി മെറ്റീരിയൽ, ആന്റി-റേഡിയോ ആക്ടീവ് കോട്ടിംഗ് മെറ്റീരിയൽ, കാറ്റലിസ്റ്റ് എന്നിവ നിർമ്മിക്കുന്നതിനും ഇത് വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു.